汇成真空跌10.66%，成交额8.44亿元，后市是否有机会？
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
真空镀膜设备
汇成真空跌1.17%，成交额3.93亿元，后市是否有机会？
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
汇成真空跌5.08%，成交额6.12亿元，近5日主力净流入-1.99亿
据招股说明书：发行人主要客户包括苹果公司、富士康、比亚迪、捷普、沃格光电、日久光电、宏旺等国内外知名企业和科研院所，该等客户较多是行业内知名的生产企业，公司凭借自身生产能力、产品和服务质量、技术创新、快速响应等多方面的优势获得了这些国内外大型知名企业的认可，并
汇成真空涨5.20%，成交额7.58亿元，近5日主力净流入-6076.63万
据招股说明书：发行人主要客户包括苹果公司、富士康、比亚迪、捷普、沃格光电、日久光电、宏旺等国内外知名企业和科研院所，该等客户较多是行业内知名的生产企业，公司凭借自身生产能力、产品和服务质量、技术创新、快速响应等多方面的优势获得了这些国内外大型知名企业的认可，并
汇成真空跌1.37%，成交额5.48亿元，后市是否有机会？
据招股说明书：发行人主要客户包括苹果公司、富士康、比亚迪、捷普、沃格光电、日久光电、宏旺等国内外知名企业和科研院所，该等客户较多是行业内知名的生产企业，公司凭借自身生产能力、产品和服务质量、技术创新、快速响应等多方面的优势获得了这些国内外大型知名企业的认可，并
汇成真空跌1.83%，成交额7.42亿元，今日主力净流入-3348.88万
据招股说明书：发行人主要客户包括苹果公司、富士康、比亚迪、捷普、沃格光电、日久光电、宏旺等国内外知名企业和科研院所，该等客户较多是行业内知名的生产企业，公司凭借自身生产能力、产品和服务质量、技术创新、快速响应等多方面的优势获得了这些国内外大型知名企业的认可，并
汇成真空涨1.96%，成交额4.39亿元，近5日主力净流入-1.09亿
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
汇成真空涨0.43%，成交额5.19亿元，近5日主力净流入-1.42亿
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
汇成真空涨2.25%，成交额5.11亿元，今日主力净流入494.99万
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
汇成真空涨3.75%，成交额6.16亿元，今日主力净流入2982.43万
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
汇成真空涨0.86%，成交额2.98亿元，后市是否有机会？
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
汇成真空跌0.69%，成交额3.94亿元，今日主力净流入-1752.53万
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
汇成真空涨2.03%，成交额8233.27万元，近5日主力净流入-2836.18万
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
汇成真空跌3.05%，成交额8983.54万元，今日主力净流入-1141.01万
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
汇成真空涨3.06%，成交额1.68亿元，近3日主力净流入-2555.24万
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
汇成真空跌4.30%，成交额1.53亿元，近5日主力净流入-2103.38万
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
汇成真空跌3.83%，成交额1.41亿元，近5日主力净流入-1930.83万
招股说明书：镀膜设备作为芯片制造过程中核心的三大设备（光刻、刻蚀和镀膜）之一，对设备的可靠性、稳定性和一致性提出了极高的要求。公司产品主要为 PVD 真空镀膜设备。根据公司官网，公司原子层沉积(ALD)技术是将物质以单原子膜形式过循环反应逐层沉积在基底表面，形
中国真空镀膜设备行业分类、市场运行态势及产业链全景图谱分析
随着环保治理和生态红线的刚性倒逼，真空镀膜以高性价比、低污染的优势成为表面处理业内主流技术。一方面，迎合了国家可持续发展的战略，另一方面能够减少不必要的损耗和浪费，起到了节能环保作用。随着我国制造业越来越发达，真空镀膜的应用领域更加广泛，对真空镀膜设备的需求也
用STAR法则精准呈现专精特新小巨人企业技术突破
在专精特新小巨人企业申报过程中，如何系统化展现企业的技术创新能力与成果价值，是申报书撰写的关键。STAR法则（情境Situation、任务Task、行动Action、结果Result）作为一种结构化表达工具，能有效提升申报材料的逻辑性与说服力。本文结合申报书核
周一早间股市信息
证券信息：截至2月底上交所ETF总规模超2.7万亿，股票ETF突破2万亿；沪市债券ETF规模突破1800亿元；年内17只沪市上市ETF分红总额近66亿元；江南新材732124申购日；上期所调整氧化铝期货交易保证金比例和涨跌停板幅度；QDII基金重仓股大胆突破，